痕量納米顆粒分析儀通常用于測量納米級別的顆粒，其表征測試方法主要包括以下幾個方面：
粒徑分布分析：
動態光散射（DLS）：適用于測量顆粒的動態大小分布，通過分析顆粒在液體中的布朗運動來計算顆粒的尺寸分布。
靜態光散射（SLS）：對于較大的顆?；蚓奂w，使用SLS可以提供更準確的粒徑分布信息。
表面電荷分析：
Zeta電位測量：通過測量顆粒在溶液中的電動勢來評估其表面電荷情況，這對于理解顆粒的穩定性和相互作用非常重要。
形貌和結構分析：
透射電子顯微鏡（TEM）：用于直接觀察顆粒的形貌和結構，可以提供高分辨率的圖像和顆粒的晶體結構信息。
掃描電子顯微鏡（SEM）：適用于表面形貌的分析，能夠觀察顆粒的形狀、大小和表面特征。
化學成分分析：
能譜分析（EDS）：與SEM或TEM結合使用，用于確定顆粒的化學成分，可以識別顆粒表面的元素組成。
熱性質分析：
差示掃描量熱法（DSC）：用于分析顆粒的熱性質，例如熔融點、玻璃化轉變溫度等，以評估顆粒的熱穩定性和熱動力學特性。
表面分析：
X射線光電子能譜（XPS）：分析顆粒表面的化學組成和電子結構，提供表面化學信息和分析顆粒表面的狀態。
以上方法可以根據具體的研究目的和樣品的特性進行選擇和組合，以全面表征痕量納米顆粒的大小、形貌、結構、表面性質以及化學成分等關鍵信息。
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